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太陽能玻璃濺射的磁控濺射真空鍍膜機

2021-01-09

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       太陽能玻璃集熱管的磁控濺射真空鍍膜機它包括真空容器、轉架統、磁控濺射靶、真空獲得系統及電源、電控和真空測量等。真空容器是實現對玻璃管進行涂鍍的作業室。真空鍍膜機磁控濺射靶、轉架系統、真空測量及配氣系統都與真空容器緊密相連。真空鍍膜機磁控濺射靶安放在真空容器底板的正中央,靶的周圍是固定玻璃管的轉架系統,一次可以放置30支φ58mm管徑的玻璃管,轉架系統的周圍即容器內壁安裝有配氣系統的充氣管道,它是為了保證整個容器內氣氛的均勻性分布而精心設計配置的;真空室容器后側是與真空抽氣系統相連接的抽氣口。


真空鍍膜機


       真空鍍膜機真空容器內腔尺寸是φ900mm X 2500(h)mm,可為1500~2000mm長的各種玻璃管鍍制太陽能吸熱膜,是立式前開門,大門上有3個觀察窗,可以觀看鍍膜的全過程。
       真空鍍膜機抽氣系統采用的是以KT- 600油擴散泵為主泵的真空機組,其中包括K-600油擴散泵,抽速為300L/s的羅茨泵,2x70粗抽泵和2 x 30維持泵及相關的閥門和管道,它的極限真空可以達到5 X 10-4Pa??梢栽?5min以內將容器從大氣狀態抽到6.67 X10-3Pa的本底真空。
       真空鍍膜機磁控濺射靶的結構采用永磁式同軸圓柱靶的陰極結構,靶的長度為2000mm,內徑為60mm,外徑為70mm,靶材為鋁。電磁鋼采用條形釹鐵硼,靶芯可以進行360o的全方位轉動,以保證靶面刻蝕均勻,靶材利用率可達到80%以上。靶管與靶體連接用螺紋,安裝拆卸方便。
       轉架固定在鍍膜室支架后側的電動機與減速器,通過皮帶傳動,將轉動力矩傳送到一根直接通向真空容器內部的轉軸上,通過主轉盤的轉動實現轉架的公轉。
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